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        豫磨精飾簡析如何獲得光亮的金屬拋光表面

        發布時間:2020-07-25發布人:豫磨精飾

         
         

         

          為了獲得光亮的電拋光表面,必須使表面上微觀粗糙度降低到低于光的波長。要達此目的,通常認為應當形成比中間黏液層更厚、更致密、更易鈍化的緊密層,它可以是趨于飽和的高黏度黏液層,也可以是固體層。這樣,金屬的溶解是在緊密膜內進行的,緊密膜的形成速度應當超過該膜的溶解速度,這是存在緊密膜的前提。在幾乎無對流的特殊條件下,變得十分厚,也更加緊密,甚至可以出現光的干涉色。在這樣厚的黏液膜或固體膜內,陽極電流密度變得非常小,它可以使微觀的凸出部溶解,而微觀的凹入部不再溶解,這就達到了微觀整平目的。由于類似的狀態在金屬表面的多處均存在,使表面的各個部分均發生微觀整平,這種表面的無序微觀整平的最終結果,就使金屬表面變得光亮。所以電拋光實際上是陽極表面的宏觀整平(一次電流分布)和微觀整平(二次電流分布)作用的結果。只有宏觀整平,陽極表面只能變得平滑,但不能產生光澤。有些電解液可以同時具有宏觀整平與微觀整平作用,在使用拋光機拋光的第一階段,形成的黏液膜的黏度還不夠高,此時只起宏觀整平作用。當宏觀整平進行到一定程度后,形成的黏液膜更黏、更貼近金屬表面,因此也可以起微觀整平的作用,從而達到真正拋光的效果。
          
         
         
         
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